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PELAD设备
半导体设备
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技术支持
PELAD设备
发布日期:2023/10/11 0:00:00
1.成膜均匀性小于1%;
2. LOADLOCK 样品传输系统;
3.独特的进气设计,快速阀门相应(<10ms),精确控制每个循环中的进源量,有效避免反应源的损失;
4.反应Gas line采用全包裹加热式,对气线进行差异式控温方式进行加热,管路加热均匀;
5. ICP 远程感应耦合等离子体系统;
6.原装进口 1000W 射频电源;
7.高性能真空系统(含进口干泵+分子泵)。
友情链接:
0513-59999369
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