| EN
您现在所在位置: 首页 > 供应产品 > 核心组件 > RF350离子源

半导体设备

核心组件

技术支持

RF350离子源

发布日期:2022/6/30 0:00:00

产品介绍

RF350离子源使用围绕等离子体罐的射频感应线圈的射频功率工作。 射频场激发罐中的电子,使它们与气体原子碰撞产生离子,在源的等离子体罐中产生等离子体。

一旦等离子体被点燃,栅网上的电势将离子从源中提取出来,并加速它们向基片移动,从而产生离子束。


产品应用

bat365在线登录入口提供的RF350离子源主要应用于离子束刻蚀设备(IBE)与离子束沉积设备(IBD

产品特点

支持很宽的高功率操作范围

卓越的等离子体均匀性、稳定性

3网格设计提供了非常高的准直性

水冷式——适用于低功率到高功率运行

稳定高效的等离子体操作具有精确控制能力并允许高重复性

非常适合于负载锁定生产工艺

0513-59999369
XML 地图